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光催化设备选型

简要描述:光催化设备选型利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,进行反应生成低分子化合物,如CO2、H2O等。

  • 产品型号:LK-5000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-06-07
  • 访  问  量:72

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详细介绍

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光催化设备选型

是利用光来激发二氧化太等化合物半导体,利用它们产生的电子空穴来参加氧化—还原反应。 当能量大于或等于能隙的光照射到半导体纳米粒子上时,其价带中的电子将被激发跃迁到导带,在价带上留下相对稳定的空穴,从而形成电子—空穴对。由于纳米材料中存在大量的缺陷和悬键,这些缺陷和悬键能俘获电子或空穴并阻止电子和空穴的重新复合。这些被俘获的电子和空穴分别扩散到微粒的表面,从而产生了强烈的氧化还原势。

产品特点

1、能高效去除挥发性有机物及各种恶臭味,适应性强,可每天连续长时间工作,运行稳定可靠

2、恶臭气体无需进行预处理,运行成本低,设备耗能低,可节约大风量排风动力能耗

3、适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,无需添加其他物质进行化学反应,只需设置相应的排风管道和排风动力。



光催化设备选型

工艺原理

光催化通常是指有机物再光的作用下,逐步氧化成低分子中间产物最终生成如CO2,H2O及其他的离子如:NO3-,PO43-,C1-等。有机物的光降解可分为直接光降解,间接光降解。前者是指有机物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态,再诱导一系列有机污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的有机污染更为重要。

优点:

操作简单、能耗低、无二次污染、效率高。
  1. 直接用空气中的氧气做氧化剂,反应条件温和(常温 常压) 

  2. 可以将有机污染物分解为二氧化碳和水等无机小分子,净化效果彻底。
  3. 半导体光催化剂化学性质稳定,氧化还原性强,成本低,不存在吸附饱和现象,使用寿命长。
  4. 光催化净化技术具有室温深度氧,二次污染小,运行成本低和可望利用太阳光为反应光源等优点,所以光催化特别合适室内挥发有机物的净化,在深度净化方面显示出了巨大的应用潜力。 常见的光催化剂多为金属氧化物和硫化物,其中二氧化太的综合性能最好,应用最广。

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