详细介绍
品牌 | 其他品牌 | 加工定制 | 是 |
---|---|---|---|
电压 | 380v | 净化率 | 85% |
重量 | 350kg |
品牌 | 其他品牌 | 加工定制 | 是 |
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电压 | 380v | 净化率 | 85% |
重量 | 350kg |
光催化设备选型
是利用光来激发二氧化太等化合物半导体,利用它们产生的电子和空穴来参加氧化—还原反应。 当能量大于或等于能隙的光照射到半导体纳米粒子上时,其价带中的电子将被激发跃迁到导带,在价带上留下相对稳定的空穴,从而形成电子—空穴对。由于纳米材料中存在大量的缺陷和悬键,这些缺陷和悬键能俘获电子或空穴并阻止电子和空穴的重新复合。这些被俘获的电子和空穴分别扩散到微粒的表面,从而产生了强烈的氧化还原势。
产品特点
1、能高效去除挥发性有机物及各种恶臭味,适应性强,可每天连续长时间工作,运行稳定可靠
2、恶臭气体无需进行预处理,运行成本低,设备耗能低,可节约大风量排风动力能耗
3、适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,无需添加其他物质进行化学反应,只需设置相应的排风管道和排风动力。
光催化设备选型
工艺原理
光催化通常是指有机物再光的作用下,逐步氧化成低分子中间产物最终生成如CO2,H2O及其他的离子如:NO3-,PO43-,C1-等。有机物的光降解可分为直接光降解,间接光降解。前者是指有机物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态,再诱导一系列有机污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的有机污染更为重要。
优点:
直接用空气中的氧气做氧化剂,反应条件温和(常温 常压)
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